Gepolijst aluminiumnitride (ALN) keramisch substraat

Gepolijst aluminiumnitride (ALN) keramisch substraat

GRWAYGepolijst aluminiumnitride (ALN) keramisch substraatDe aluminiumnitride (AlN) keramiek heeft een hoge thermische geleidbaarheid (5-10 keer als de aluminiumoxide keramiek), lage diëlektrische constante en dissipatiefactor, goede isolatie en uitstekende mechanische eigenschappen, niet-toxisch, hoge thermische weerstand, chemische weerstand, en de lineaire uitzettingscoëfficiënt is vergelijkbaar met Si, dat veel wordt gebruikt in communicatiecomponenten, krachtige leds, vermogenselektronische apparaten en andere velden.Speciale spec-producten kunnen op verzoek worden geproduceerd.

Aluminiumnitride (ALN) Keramisch substraat PRESTATIES

Regelmatige afmetingen van AlN-substraat/wafer

PS: Andere afmetingen die niet in de lijst staan, zijn beschikbaar op uw verzoek.

Eigenschappen van aluminiumnitride (ALN) keramisch substraat

1. Uniforme microstructuur

2.Hoge thermische geleidbaarheid* (70-180 Wm-1K-1), aangepast via verwerkingsomstandigheden en additieven

3.Hoge elektrische weerstand

4. Thermische uitzettingscoëfficiënt dicht bij die van silicium

5. Weerstand tegen corrosie en erosie

6. Uitstekende thermische schokbestendigheid

7. Chemisch stabiel tot 980°C in H2- en CO2-atmosfeer, en in lucht tot 1380°C (oppervlakte-oxidatie vindt plaats rond 780°C; de oppervlaktelaag beschermt het grootste deel tot 1380°C).